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    學術動態

    中科院微電子所韋亞一研究員來我校講學

    時間:2020-11-17 來源:信息學院 供稿:張靜 瀏覽: 字體:

    11月13日,應信息學院邀請,中國科學院微電子研究所韋亞一研究員,在博遠樓236智慧教室做了題為《先進IC光刻技術發展趨勢》的學術講座。

    韋亞一研究員由淺入深地將師生引入集成電路(Integrated Circuit,IC)光刻技術,介紹了光刻設備的組成結構,不同子系統間實現完整光刻的相互協作機制;講解了從28nm的50層光刻,到現在7nm的80層光刻,甚至更精細的結構下,光刻對先進工藝的要求;評述了不同設備對于光刻要求的處理實現,及光刻工藝和前后單項工藝的銜接問題;比較了ASML不同機型對應的技術節點,各種傳感器、曝光系統、浸沒系統和環境系統等的不同之處。最后,韋亞一研究員與同學們進行了交流互動,為同學們解答了關于光刻技術發展的一些疑惑,拓展了同學們的學術視野。

    韋亞一,研究員、博士生導師,中國科學院微電子研究所計算光刻研發中心主任;曾在美國能源部橡樹嶺國家實驗室、德國英飛凌公司美國紐約研發中心、美國安智公司新澤西研發中心、美國格羅方德公司紐約研發中心等知名企業與研究機構工作,具有豐富的先進光刻研發經驗,取得了多項核心技術。

    編輯:左芳舟


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